【簡(jiǎn)介：】明年就能生產(chǎn)28納米光刻機(jī)。如果順利生產(chǎn)28納米光刻機(jī)，中國(guó)百分之九十的芯片制造都可以自足。
7納米5納米只有用在高端手機(jī)上，電腦14納米都算是非常先進(jìn)，其他行業(yè)48納米制成的
明年就能生產(chǎn)28納米光刻機(jī)。如果順利生產(chǎn)28納米光刻機(jī)，中國(guó)百分之九十的芯片制造都可以自足。
7納米5納米只有用在高端手機(jī)上，電腦14納米都算是非常先進(jìn)，其他行業(yè)48納米制成的芯片都已經(jīng)是非常先進(jìn)了。臺(tái)積電三星中芯國(guó)際不代工，華為干脆暫時(shí)放下手機(jī)業(yè)務(wù)，轉(zhuǎn)戰(zhàn)別的領(lǐng)域。購(gòu)買(mǎi)國(guó)產(chǎn)48納米光刻機(jī)，足以讓華為不被卡脖子。
光刻機(jī)難不難確實(shí)很難，對(duì)企業(yè)來(lái)說(shuō)是真難，主要成本控制問(wèn)題。如果成本控制不再考慮中，光刻機(jī)難不難，回答是給幾年時(shí)間完全能彌補(bǔ)上技術(shù)的差距。國(guó)家一旦調(diào)動(dòng)各方力量，二三年基本上能接近荷蘭ASML廠(chǎng)家的水平。
上海微電子可以制造光刻機(jī)不是啥新鮮事，人家從2002年就開(kāi)始立項(xiàng)研發(fā)光刻機(jī)了，只是我們技術(shù)實(shí)在落后，人才又缺乏，因此進(jìn)展一直比較緩慢。不過(guò)，進(jìn)入2010年后國(guó)產(chǎn)研發(fā)團(tuán)隊(duì)不斷攻克光刻機(jī)核心子系統(tǒng)的技術(shù)南廣，未來(lái)我國(guó)光刻機(jī)將會(huì)迎來(lái)較快的發(fā)展，基本上可以從低端躍至中端，然后將向最后的高端領(lǐng)域發(fā)起沖擊。
1、上海微電子現(xiàn)有情況：目前國(guó)內(nèi)研發(fā)光刻機(jī)的廠(chǎng)商不少，但屬于領(lǐng)先地位的就只有上海微電子，能量產(chǎn)的90nm光刻機(jī)，其他廠(chǎng)商只能生產(chǎn)200nm、300nm這樣的光刻機(jī)，但在全球光刻機(jī)領(lǐng)域上海微電子屬于低端。
目前，有消息稱(chēng)上海微電子正在研發(fā)28nm節(jié)點(diǎn)光刻機(jī)，但實(shí)際情況未知。如果說(shuō)這臺(tái)28nm節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)能研發(fā)成功，那么我國(guó)芯片生產(chǎn)或?qū)⒒窘鉀Q自主問(wèn)題。
因?yàn)椋?8nm節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)不僅僅只能用來(lái)生產(chǎn)28nm制程芯片，通過(guò)套刻多重曝光可以實(shí)現(xiàn)10nm芯片，如果代工廠(chǎng)技術(shù)過(guò)關(guān)，甚至可以實(shí)現(xiàn)7nm制程芯片。
這意味著在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域，我們可以實(shí)現(xiàn)較為先進(jìn)的芯片技術(shù)，至于具體能不能生產(chǎn)就看中芯這類(lèi)代工廠(chǎng)的生產(chǎn)技術(shù)了。
2、我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域的水平：全球能做光刻機(jī)的廠(chǎng)商其實(shí)沒(méi)幾家，除了荷蘭ASML，剩下就是日系廠(chǎng)商尼康和佳能，以及我們的上海微電子。
但是從這2年的發(fā)展來(lái)看，未來(lái)這個(gè)領(lǐng)域應(yīng)該只有我們和ASML競(jìng)爭(zhēng)了。日系廠(chǎng)商基本屬于出局狀態(tài)，這塊它們不愿意再進(jìn)行大量的投資，一句話(huà)燒不起這錢(qián)。
目前我國(guó)對(duì)于光刻機(jī)基本屬于舉國(guó)體制運(yùn)作，2009年中科院牽頭執(zhí)行了02專(zhuān)項(xiàng)計(jì)劃，專(zhuān)門(mén)來(lái)解決光刻機(jī)的問(wèn)題。光刻機(jī)由于整個(gè)系統(tǒng)復(fù)雜，牽涉技術(shù)領(lǐng)域較多，因?yàn)楦骱诵淖酉到y(tǒng)均分配給了不同的技術(shù)團(tuán)隊(duì)和廠(chǎng)商來(lái)研發(fā)。
截至2020年，我們已經(jīng)解決了雙工件臺(tái)（下圖）、浸液系統(tǒng)、準(zhǔn)分子激光光源等核心子系統(tǒng)，基本掃清了光刻機(jī)的主要技術(shù)難關(guān)，這些子系統(tǒng)如果放眼全球，基本上都是全球第二或第三掌握這些技術(shù)的廠(chǎng)商。
后續(xù)就看上海微電子如今將這些子系統(tǒng)進(jìn)行整合了，他們只是系統(tǒng)制造商。
另外最先進(jìn)光刻機(jī)使用的EUV光源，我們也正在研發(fā)中，按早前的規(guī)劃似乎要到2030年。
Lscssh科技官觀(guān)點(diǎn)：綜合來(lái)說(shuō)，現(xiàn)階段我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域正逐步發(fā)展中，也取得了一定的成績(jī)，如果小道消息靠譜，那預(yù)估5年內(nèi)我們或許可以有較為先進(jìn)的光刻機(jī)（28nm節(jié)點(diǎn)光刻機(jī)）。但是，要想真正沖擊高端領(lǐng)域，我們還需要花費(fèi)很長(zhǎng)的時(shí)間，至少10年起步甚至要更長(zhǎng)時(shí)間。
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